淄博言赫特氣有限公司的電子級(VLSI)氯化氫產品生產裝置于2003年投產，經北京市科委鑒定，主要用于半導體器件生產中單晶硅片的氣相拋光、外延基座腐蝕及硬質合金制造。

    電子及氯化氫在我們生活的各個領域中具有廣泛的應用前景，它不僅是電子工業中制造大規模集成電路所需的重要材料之一，而且應用于醫藥、化工、半導體行業，因此需求量越來越大。 
    目前已有研究人在研究制備過程中成功合成了電子級氯化氫，同時從這些合成方法中發現解析法和鹽酸脫析法制備氯化氫工藝簡單可大規模生產，但是制備的氯化氫純度偏低，越來越不滿足電子工業，尤其是集成電路的要求。合成法生產氯化氫的純度偏高，但其中水量高，腐蝕嚴重，對設備要求高，生產成本高。考慮到環保以及工業副產品回收利用等多方面因素，制備高純度氯化氫的合成是必然的發展趨勢，正如石油化工副產物氯化氫提純法。此提純法無需外加反應介質，因而避免了其它雜質介質的引入，而且操作簡單，生產成本低，但是在我國技術還不太成熟。我國的電子級氯化氫產品大多從美，日等國進口，價格昂貴。因此我們需要進一步研究與完善電子級氯化氫的合成工藝，給我國帶來一定可觀的社會效應和經濟效益。

    我公司5.0N電子級(VLSI)氯化氫產品經國內外多家半導體重點企業連續大量在單晶硅片氣相拋光和外延基座腐蝕工藝中廣泛使用，制得的器件產品質量與國際知名品牌相當。