高純氨氣(NH3)是電子工業中氮化膜的成膜氣體。高純氨氣跟硅烷、高純氬氣(Ar)用于薄膜太陽能電池的制造,也用于LED電子行業。氨氣具有強腐蝕性和毒性，而且具有刺激性臭味，易溶于水。

　　在目前，國產高純氨氣已經占到國內市場需求的一大半，相信以后會完全取代國外氣體公司滿足中國在IC、LED、太陽能電池等領域的需求。

　　高純四氟化碳(CF4) ，目前四氟化碳主要應用于微電子工業中的等離子蝕刻，廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢膜材料的銹蝕。同時也應用于電子元件的清洗。四氟化碳又叫做四氟甲烷，是一種鹵代烴。無色、無臭、不可燃，揮發性較高。是最穩定的有機化合物之一。

目前可以生產純度達99.999%的高純四氟化碳，產量基本可以滿足珠江三角洲地區電子工業的需求。

　　高純氯化氫(HCL)，主要應用于大規模集成電路單晶硅片氣相拋光，外延機座腐蝕等。氯化氫是一種無色有刺激性氣味的氣體。易溶于水(遇水是有強腐蝕性)。遇氰化物產生劇毒性氣體氰化氫。目前高純氯化氫已經可以滿足國內市場的需求。

　　隨著國內氣體企業對電子氣體的重視，國內氣體公司在技術方面也漸漸的追上了國外氣體公司。涌現出了一批具有創新性和活力的氣體公司。我們淄博言赫特氣經營氯化氫氣體已經多年，獲得了很多客戶的好評，也希望我們可以成為很好的合作伙伴！